在半導體、微電子、新能源、光學器件等科研與產業化領域,勻膠機也常被稱作旋涂儀,是納米薄膜制備、光刻膠涂覆等工藝的核心設備。以往市場多依賴進口設備,如今國產設備在技術參數、工藝適配、性價比及售后保障上已實現良好的進口替代,其中上海三研科技推出的勻膠機 / 旋涂儀系列產品,憑借成熟的技術架構與適配多場景的機型配置,成為科研院所及企業生產的優選國產設備。
勻膠機 / 旋涂儀依托精密伺服電機驅動旋轉臺面,利用真空吸附固定各類基片,通過程序控制轉速、加速度與運行時長。將液態膠體滴加在基片表面后,借助高速旋轉產生的離心力,讓膠體在基片表面均勻鋪展、流平,再經揮發固化形成厚度均勻、一致性良好的薄膜涂層。設備全程采用自動化分段程序調控,搭配預吸片與解吸片流程,保障涂膜過程平穩,減少基片滑落、飛片等問題,適配各類精密涂膜工藝需求。
上海三研科技勻膠機 / 旋涂儀主要包含 SYSC-100A、SYSC-150A、SYSC-150B、SYSC-150C 四大主力機型,覆蓋不同基片尺寸與轉速需求,適配多元化應用場景。SYSC-100A 適配直徑 10-100mm 基片,旋轉速度區間 10-8000rpm,滿足中小尺寸基片常規涂膜工藝;SYSC-150 系列整體適配直徑 10-150mm 基片,其中 150A 轉速 10-8000rpm,150B 轉速可達 10000rpm,150C 轉速可達 12000rpm,可適配大尺寸基片及高轉速高精度涂膜場景,覆蓋科研基礎實驗到高端功能涂層制備全需求。

轉速與控制精度:全系列設備轉速分辨率可達 1rpm,速度精度控制在 0.02% 以內,轉速運行平穩波動小,能夠把控薄膜成膜厚度與均勻性。
加速度性能:SYSC-100A 有負載真實加速度可達 40000rpm/s,SYSC-150 系列機型加速度可達 60000rpm/s,加速度調節范圍寬泛,可適配不同膠體粘度的涂膜工藝。
時序控制能力:每段加速時間支持 999.9s,旋涂時間最長可達 9999.9s,時間分辨率 0.1s;預吸片與解吸片時間均最長支持 99s,可靈活調控吸附與釋放節奏,保護基片及膜層完整。
程序存儲與調控:設備支持十段分段程序控制,可儲存 50 組常用工藝參數,隨時調取使用,適配多配方、多批次連續實驗與生產。
設備整體采用模塊化耐腐蝕結構設計,機身外殼選用 SUS304 不銹鋼材質,抗腐蝕且便于日常清潔維護。勻膠腔體采用德國勞士領 NPP 材質,經 CNC 一體加工成型,可承接滴落膠液,避免廢液侵入真空管路與設備內部,延長設備使用壽命。旋轉吸片臺搭載德國勞士領 PEEK 材質,具備耐高溫、抗腐蝕、不易變形的特性,長期高速運行仍能保持結構穩定。
動力核心采用專屬定制精密高速伺服電機,運行噪音低、穩定性好;標配無油真空泵,吸力穩定且噪音表現良好,牢固吸附基片。同時配備腔體開關檢測、真空吸片檢測雙重防護機制,腔體未閉合、真空吸附異常時設備無法啟動或即時停機,規避飛片、設備故障等隱患。
該系列勻膠機 / 旋涂儀適配多行業精密涂膜工藝,廣泛應用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學器件等領域。可完成硅片、玻璃、金屬、塑料等多種材質基底的單面旋轉涂膜,適用于納米薄膜材料、光刻光阻涂覆、生物功能涂層、太陽能電池功能涂層等制備場景,既能滿足高校、科研實驗室的研發實驗需求,也可適配中小型企業批量產業化涂膜生產。
上海三研科技深耕納米薄膜材料領域儀器設備研發與供應,聚焦科研及生產端設備需求,依托成熟的零部件選型與工藝調校技術,設備運行穩定性貼合行業使用標準。整機選用優質進口高精度零部件,整機運行振動小,涂膜表面無明顯條紋,工藝重復性表現良好。
相較于進口同類設備,該系列國產勻膠機 / 旋涂儀在滿足同等技術參數與工藝精度的基礎上,具備更親民的采購成本,無高額進口關稅與運輸周期困擾。同時設備適配國內實驗室電壓、安裝環境及工藝習慣,上手操作門檻低,無需復雜適配調試,是進口設備替代的優質選擇。
電話:021-6816-1968/18616317001,徐經理
設備配置 7 英寸液晶觸摸屏,運行狀態、各項工藝參數實時可視化展示,參數調節、程序設置操作便捷,新手可快速上手。真空泵啟停實現全自動程序控制,無需人工手動干預,簡化操作流程。
品牌提供完善的配套服務,除設備出廠調試、安裝指導外,可提供溶膠 - 凝膠法薄膜制備全流程技術咨詢,涵蓋前驅物選擇、溶膠配置、涂膜工藝到熱處理等環節技術支持。同時配備專業售后團隊,提供設備日常維護、故障檢修、工藝參數優化等服務,保障設備長期穩定運行,降低用戶后期使用維護成本。
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