產(chǎn)品概述：
1200度CVD管式爐由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成
，溫度可以達到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。
PT-T1200管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表，能進行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。
適用范圍：
1200度CVD管式爐是一種特殊的CVD系統(tǒng)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品。用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
