我公司擁有多名日本專家、博士工程師及經營管理團隊，擁有專業從事碳化硅涂層以及對石墨產品進行高溫純化除雜技術。公司產品及技術廣泛應用于半導體行業，LED行業，航天行業，化工行業，光伏行業，包裝行業，耐腐蝕行業、冶金行業等領域。
公司通過引進國外的CVD法碳化硅涂層及高溫純化裝置與技術，根據客戶需要為不同形狀，不同結構和大小的石墨件純化除雜，純化后的石墨雜質可降至小于5PPM,并采用高溫化學氣相沉積法沉積指定厚度的碳化硅涂層。
相比以往的工藝，CVD法生產的碳化硅晶體結構致密，晶格排列整齊，與沉底材料結合更緊密等優勢。具有耐高溫，耐磨損，耐腐蝕，易導熱的特點，憑借這些涂層，我們的產品被廣泛應用于制作流化床和熱氫化的反應器部件，CZ直拉單晶爐的導流筒部件，以及硅外延和GaN外延的托盤。
產品指標：
ü材料：進口等靜壓高純石墨
ü純度：小于5ppm
üSIC涂層厚度：120μm±30μm(涂層厚度可根據客戶要求定制)
ü涂層表面粗糙度：6-8μm
ü涂層后基座電阻率：0.0004-0.00045Microhm-m
ü高均勻度和優異的熱傳導性
ü耐電漿轟擊
ü均溫性
ü高耐腐蝕性和穩定性
ü理想的電阻特性
ü使用壽命長
應用領域：
üLED芯片產業MOCVD外延片承載石墨托盤
üICP蝕刻制程用之承載盤
ü硅外延及GaN外延等各Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半導體半導體材料外延托盤
合能陽光
ü提供各種規格碳化硅涂層石墨制品：承載盤，預熱環，篩盤，頂針等相關制品
ü可接受根據圖紙定制加工業務
ü質量穩定，交貨期短
主要客戶：
國內半導體芯片企業、LED光電企業等