地坪光亮劑產品，是一種新型地坪拋光材料，采用了源自德國的特種高分子材料的高科技產品，和普通地坪光亮劑不同的是，它不僅僅是在表面形成一個膜層，它能夠深入滲透到地面內部，經過物理機械拋光后能賦予地坪很好的光澤度。力特克地坪光亮劑產品適用于：金剛砂耐磨地坪、混凝土密度固化地坪、水磨石地坪、大理石等產品的表面拋光之用。
在硬化地坪施工過程中，到底要不要用拋光液進行拋光處理呢？在回答這個問題之前，我們先要了解什么是地坪拋光液，地坪拋光液能起到什么作用，才能對這個硬化地坪需不需要拋光液的問題進行客觀的分析。
地坪拋光液是一種用來提升硬化地坪亮度的產品，也叫做地坪光亮劑、地坪亮光劑、地坪增亮劑、地坪拋光劑等等，地坪光亮劑具有抗磨損、防刮傷、防刻劃的功能。用途非常廣泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等為基礎表面拋光，它的特點就是滲入地坪，在干燥的過程中和混凝土粘結在一起，干燥后經過物理拋光，能賦予地坪超亮的光澤的同時，還能提高表面的防水、防塵、抗污保潔和抗磨性能。
（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。
硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。
拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。
多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。
主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。
氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。