通過上面的介紹，我們在施工硬化地坪時，非常有必要用地坪拋光液進行拋光，因為地坪拋光液不單單只是提高地坪的光澤度，還能提高地面抗?jié)B、防塵、抗污保潔的功能，讓地坪更有質(zhì)感的同時，也能更好的對地面進行養(yǎng)護。可以說硬化地坪使用拋光液進行拋光并非畫蛇添足而是錦上添花，讓硬化地坪的效果更上一層樓！
地坪拋光液的簡單介紹
地坪拋光液也叫「混凝土拋光液」，可用于提升多種水泥基地面的光澤度和亮度。地坪拋光液使用方便且快捷，噴灑于固化地坪表面，配合上專業(yè)拋光墊進行高速拋光，即可改善白斑、花斑及色差等地面問題，使得地坪表面光澤度一致，達到光亮如鏡的效果。
地坪拋光液的兩種主要成分
地坪拋光液的設(shè)計思路是有跡可循的，討論該材料的主要成分，我們可以聯(lián)系上它的作用功效和施工方法。地坪拋光液的主要成分有兩種，分別是「巴西蠟乳液」和「石蠟」，兩者的詳細介紹如下。
光液使用方法編輯
包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、鋅合金等金屬產(chǎn)品經(jīng)過研磨以后，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光。
1、拋光劑投放量為（根據(jù)不同產(chǎn)品的大小，光飾機的大小和各公司的產(chǎn)品光亮度要求進行適當配置）；
2、拋光時間：根據(jù)產(chǎn)品的狀態(tài)來定；
3、拋光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。
化學機械拋光
這兩個概念主要出半導體加工過程中，最初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術(shù)——化學機械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術(shù)綜合了化學和機械拋光的優(yōu)勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數(shù)量級，是能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。