半導體主要成分：半導體行業廢氣主要為有機廢氣和酸堿廢氣兩類。有機類有：非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等；酸堿類有：氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。
半導體酸堿性廢氣：
工藝流程： 酸/堿性廢氣→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪（達標排放）
半導體有機類廢氣VOCs
收集廢氣→沸石轉輪吸附裝置→TO直燃式焚燒爐
同時整套裝置安q、可靠、無任何二次污染。
由于半導體行業對操作室清潔度要求，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。
半導體酸堿廢氣凈化工藝方法
