KT—Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器技術資料
控制方式
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
加熱方式
數(shù)字式功率調整器
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1200W
輸出電壓電流
電壓≤12V 電流≤120A
真空度
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速
8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離
70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)
≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
預留真空接口
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展
機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）
數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）
分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）