脫硝裝置高分子脫硝設(shè)備廠家
我公司技術(shù)部門通過近幾年來對回轉(zhuǎn)窯煙氣特點進(jìn)行分析、研究、推出PNCR高分子脫硝工藝應(yīng)用在回轉(zhuǎn)窯上面，效果不錯，能做到氮氧化物NOx排放值在100毫克以下，如果個別地區(qū)要求排放值在50毫克的，此技術(shù)也能達(dá)標(biāo)，目前設(shè)備正常運(yùn)行，真實的成功案例，歡迎參觀。
回轉(zhuǎn)窯是指旋轉(zhuǎn)煅燒窯，屬于建材設(shè)備類。回轉(zhuǎn)窯按處理物料不同可分為水泥窯、冶金化工窯和石灰窯。水泥窯主要用于煅燒水泥熟料，分干法生產(chǎn)水泥窯和濕法生產(chǎn)水
泥窯兩大類。冶金化工窯則主要用于冶金行業(yè)鋼鐵廠貧鐵礦磁化焙燒；鉻、鎳鐵礦氧化焙燒；耐火材料廠焙燒高鋁釩土礦和鋁廠焙燒熟料、氫氧化鋁；化工廠焙燒鉻礦砂和鉻礦粉等類礦物。石灰窯用于焙燒鋼鐵廠、鐵合金廠用的活性石灰和輕燒白云石。
回轉(zhuǎn)窯在進(jìn)行焚燒處理時，往往會產(chǎn)生氮氧化物，對空氣造成污染，應(yīng)對其進(jìn)行脫硝處理。而現(xiàn)有的脫硝裝置都成本昂貴，過程繁瑣，不適于推廣普及。
HNCR高分子脫硝技術(shù)具有以下的優(yōu)點：
脫硝裝置高分子脫硝設(shè)備廠家
1. HNCR脫硝系統(tǒng)的建設(shè)為一次性投資，投資費(fèi)用低。分別占SNCR法的70%和80%，不存在增加系統(tǒng)的壓力損失等其它煙氣脫硝技術(shù)引起的弊端；
2. HNCR脫硝系統(tǒng)的設(shè)備占地面積小；施工時間短；
3. HNCR工藝的整個還原過程都在鍋爐內(nèi)部進(jìn)行，脫硝效***，正常情況下，可達(dá)80-90%。并且不需要另外設(shè)立反應(yīng)器；
4. HNCR法工藝簡單，易于自動化控制；
5．HNCR法脫硝劑為固體顆粒，脫硝劑易儲存，a全性高；
6. HNCR技術(shù)不需要對鍋爐燃燒設(shè)備和受熱面進(jìn)行大的改動，不需要改變鍋爐的常規(guī)運(yùn)行方式，對鍋爐的主要運(yùn)行參數(shù)影響極小。
現(xiàn)在大家是不是對HNCR高分子技術(shù)有了一點初步的了解，如果你想更多的了解高分子技術(shù)歡迎致電。
脫硝裝置高分子脫硝設(shè)備廠家