成熟閉環流程包括：
機械剝離：物理分離靶材與金屬背板。
溶解富集：酸溶（如鹽酸）將銦、錫浸出，固液分離。
銦錫深度分離：
選擇性沉淀：控制pH值分步沉淀錫、銦化合物。
溶劑萃取：P507等萃取劑優先萃銦，實現銦錫分離，回收率>95%。
高純銦制備：萃取液反萃 → 電解/置換得粗銦 → 真空蒸餾/區域熔煉 → 4N以上精銦。
再生靶材制造：精銦氧化 → 與氧化錫混合 → 成型燒結 → 新ITO靶材。
產業意義：從成本中心到價值引擎
從用過的ITO靶材中回收氧化銦包括幾個步驟，包括溶解、沉淀和焙燒。首先將目標材料溶解在鹽酸中，鹽酸溶解氧化銦，然后加入氫氧化鈉從酸性溶液中析出氧化銦。生成的氫氧化銦然后在高溫下焙燒得到氧化銦。
從用過的ITO靶材中回收氧化銦的另一種方法是使用離子交換樹脂，離子交換樹脂用于選擇性地從酸性溶液中吸附銦，然后用酸性溶液將銦從樹脂中洗脫出來，并通過焙燒得到氧化銦。
從電子廢物和廢ITO靶材等廢物來源中回收氧化銦是銦回收的一個重要方面。從這些廢源中回收氧化銦可以通過各種工藝實現，包括化學處理、溶劑萃取和離子交換，回收的氧化銦可用于生產各種半導體器件，從而減少對新銦資源的需求，并將銦開采對環境的影響降至。
