孔金屬化：多層板的 “關鍵步驟”
多層板的過孔（孔徑通常 0.2-0.8mm）內壁為絕緣樹脂，需通過以下步驟實現(xiàn)導電：
除膠渣：用高錳酸鉀溶液氧化孔壁的樹脂殘渣（鉆孔時產生），避免殘渣影響金屬附著。
化學鍍銅（沉銅）：在無外接電源的情況下，將基板浸入含硫酸銅、甲醛（還原劑）的鍍液中，通過化學反應在孔壁和基板表面沉積一層薄銅（厚度 0.5-1μm），形成初始導電層。
原理：甲醛將 Cu2?還原為 Cu 單質，均勻附著在非導電的孔壁上。
電解鍍銅（加厚銅）：將沉銅后的基板作為陰極，放入含硫酸銅、硫酸的鍍液中，通以直流電（電流密度 1-2A/dm2），使銅離子在陰極放電沉積，將孔壁和線路銅層增厚至 15-35μm（滿足電流承載需求）。
后處理：提升 PCB 性能與外觀
清洗干燥：用去離子水清洗電鍍后的殘留鍍液，再用熱風（60-80℃）烘干，防止金屬氧化。
表面處理：根據(jù)應用場景選擇不同的表面處理工藝，常見類型如下：
熱風整平（HASL）：將 PCB 浸入熔融錫鉛合金（或無鉛錫合金）中，再用熱風吹平表面，形成均勻的錫層（焊接用）。
化學鎳金（ENIG）：先化學鍍鎳（厚度 3-5μm），再化學鍍金（厚度 0.05-0.2μm），適用于高頻、高可靠性場景（如手機主板、連接器）。
OSP（有機保焊劑）：在銅表面涂覆一層有機薄膜，防止銅氧化，焊接時薄膜可被焊錫溶解，成本較低（適用于消費電子）。
直流電鍍（DC Plating）
核心原理：采用恒定直流電源對 PCB 工件施加電流，使電鍍液中的金屬離子（如 Cu2?、Ni2?）在陰極（PCB 待鍍表面）獲得電子并沉積為金屬層，是基礎、通用的電鍍方式。
工藝特點：
電流穩(wěn)定，金屬沉積速率均勻，鍍層結晶相對致密；
設備簡單、成本低，無需復雜的電源控制系統(tǒng)。
PCB 應用場景：
常規(guī) PCB 的 “全板電鍍”（整板沉積銅 / 鎳 / 金，為后續(xù)蝕刻做基礎）；
非精密線路的表面鍍層（如普通消費類 PCB 的焊盤鎳金電鍍）。
高速電鍍（High-Speed Plating）
核心原理：通過提高電流密度（通常是直流電鍍的 2~5 倍）+ 強化電鍍液循環(huán)（如噴射、攪拌），加快金屬離子遷移速率，實現(xiàn) “短時間內沉積厚鍍層” 的目標。
工藝特點：
沉積速率快（如銅鍍層沉積速率可達 20~50μm/h，是常規(guī)直流電鍍的 3~4 倍）；
需配套高濃度電鍍液（保證離子供應）、散熱系統(tǒng)（避免電流過大導致局部過熱）；
鍍層易出現(xiàn) “邊緣效應”（工件邊緣鍍層偏厚），需通過工裝優(yōu)化。
PCB 應用場景：
PCB “通孔電鍍”（THP）的厚銅需求（如電源板、服務器 PCB，通孔銅厚需≥25μm）；
批量生產中的鍍層沉積（縮短單塊 PCB 的電鍍時間，提升產能）。